ВОПРОСЫ к экзамену по курсу физика полупроводников и полупроводниковых приборов для групп ЭКТ-32,33

1. Классический электронный газ.
2. Квантовый электронный газ и его свойства.
3. Распределение Ферми-Дирака. Уровень Ферми. Плотность квантовых состояний.
4. Уравнение Шредингера для электронов в кристалле. Обратная решетка.
5. Зоны Бриллюэна. Образование энергетических зон.
6. Разрешенные и запрещенные энергетические зоны. Закон дисперсии.
7. Металлы, диэлектрики и полупроводники с точки зрения зонной теории.
8. Эффективная масса. Динамика электрона в кристалле.
9. Понятие дырки. Зонная структура германия, кремния и арсенида галлия.
10. Примесная проводимость полупроводников. Доноры и акцепторы.
11. Влияние электрического поля на энергетический спектр электронов в кристалле. Плотность квантовых состояний для электронов и дырок.
12. Равновесная концентрация электронов и дырок.
13. Уравнение электронейтральности. Собственный невырожденный полупроводник.
14. Примесный невырожденный полупроводник.
15. Полупроводник, содержащий примеси двух сортов. Сильнолегированный полупроводник.
16. Понятие столкновения. Механизмы рассеяния. Зависимость подвижности от температуры.
17. Дрейфовый и диффузионный токи. Соотношение Эйнштейна. Квазинейтральность.
18. Рекомбинация электронов и дырок. Квазиуровни Ферми. Уравнения непрерывности.
19. Механизмы рекомбинации. Прямая рекомбинация.
20. Механизмы рекомбинации. Рекомбинация через ловушки.
21. Основные уравнения, описывающие поведение электронов и дырок в полупроводниках. Максвелловское время релаксации.
22. Биполярное уравнение и его решение.
23. Эффект поля. Дебаева длина экранирования. Обогащение, обеднение, инверсия.
24. Работа выхода электронов из кристалла. Контактная разность потенциалов.
25. Контакт металл-полупроводник и его вольт-амперная характеристика.
26. Условие образования и структура р-п перехода. Контактная разность потенциалов.
27. р-п переход в неравновесном состоянии. Граничные условия Шокли.
28. Вольт-амперная характеристика идеализированного р-п перехода. Природа теплового тока.
29. Коэффициент инжекции идеализированного и реального p—n переходов. Статическое и динамическое сопротивления р-n перехода.
30. Влияние процессов рекомбинации-генерации на ВАХ р-п перехода.
31. Пробой p—n перехода. Лавинный пробой.
32. Пробой p—n перехода. Туннельный пробой.
33. Тепловой пробой. Влияние сопротивления и толщины базы на ВАХ р-п перехода.
34. Влияние высокого уровня инжекции на ВАХ р-п перехода.
35. Барьерная и диффузионная емкости р-п перехода. Малосигнальная эквивалентная схема диода.
36. Диоды Шоттки. Энергетическая диаграмма. Условия образования. Преимущества.
37. Гетеропереходы.
38. Биполярные транзисторы. Принцип и режимы работы. Диффузионные и дрейфовые транзисторы.
39. Распределение электронов и дырок в транзисторе в различных режимах работы.
40. Распределение токов в транзисторе. Эффект Эрли.
41. Уравнения Эберса-Молла. Статические характеристики транзистора при включении с общей базой.
42. Основные параметры транзистора. Коэффициент передачи.
43. Реальные выходные характеристики транзистора при включении с ОБ. Эквивалентная схема.
44. Статические характеристики транзистора при включении с общим эмиттером.
45. Зависимость коэффициента передачи транзистора от тока эмиттера.
46. Поверхностный потенциал. Обогащение, обеднение, слабая и сильная инверсия.
47. Идеальная МДП-структура и её вольт-фарадная характеристика.
48. Вольт-фарадная характеристика реальной МДП-структуры. Пороговое напряжение.
49. МДП-транзистор. Принцип работы. Перекрытие канала.
50. Вольт-амперные характеристики МДП-транзистора. Основные параметры.
51. Эквивалентная схема МДП-транзистора. Управление пороговым напряжением.
52. Комплементарные МДП-транзисторы. Быстродействие МДП-транзистора.
Комментарии 0